Se produciran películas delgadas de MoO3 por la tecnica de evaporación con laser de CO2 funcionando en modo de onda continua y Sputtering rf. Las muestras se depositarán sobre sustratos de vidrio común y silicio monocristalino. Las muestras se caracterizaran con difracción de rayos x,xps,reflectancia en el visible. Se desarrollará un modelo de calculo de propiedades ópticas con base en la simulación de espectros experimentales de reflectancia. Se determinara la influencia de los parámetros de deposito sobre las propiedades ópticas, composición, eléctricas, morfológicas y estructurales del MoO3