En este proyecto se fabricarán películas delgadas inter metálicas de cobalto - dióxido de titanio a través de la técnica de depósito por pulverización catódica asistida por campo magnético (DC Magnetron Co-Sputtering, en inglés) variando algunos parámetros de síntesis (potencia, temperatura de sustrato, temperatura de recocido, etc.). A través de caracterizaciones estructurales, ópticas y morfológicas se logrará obtener una clara idea de los procesos de crecimiento cristalino en las muestras, al igual que su morfología, topografía y coeficientes ópticos. Lo anterior tiene el fin de discernir entre las posibles aplicaciones de películas semiconductoras, la más adecuada para nuestro material. Empleando socializaciones internas en el grupo y retroalimentación académica (eventos, coloquios, etc), se busca enriquecer el conocimiento científico de todos los participantes concerniente a la fabricación y estudio de películas delgadas y nuevos materiales, así como también su fase intermetálica y posibles aplicaciones en dispositivos controlados.